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专注镀膜材料、光学晶体及真空配件等研发生产，服务电力、新能源、工业及科研领域。
真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点： (1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。 (2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。 (3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。 (4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。 真空镀膜技术主要有：真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀、真空束流沉积、化学气相沉积等多种方法。 除化学气相沉积法外，其他几种方法均具有以下的共同特点： (1)各种镀膜技术都需要一个特
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